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步驟s160:將第二預制坯以℃/min~℃/min的速率升溫至900℃,保溫2h~4h,進行排膠。對第二預制坯進行排膠能夠將第二預制坯中的第二碳源轉化為碳,從而在后續步驟中與液態硅反應得到碳化硅。步驟s170:將第二預制坯和硅粉進行反應燒結,得到碳化硅陶瓷。其中,反應燒結的溫度為1400℃~1800℃,反應燒結的時間為1h~5h。第二預制坯和硅粉的質量比為1∶(~4)。進一步地,反應燒結的溫度為1700℃~1800℃。具體地,步驟s170在真空高溫燒結爐中進行。將第二預制坯和硅粉進行反應燒結,第二預制坯中的碳與滲入的硅反應,生成鋅的碳化硅,并與原有的顆粒碳化硅相結合,游離硅填充了氣孔,從而得到高致密性的碳化硅陶瓷。上述碳化硅陶瓷的制備方法至少具有以下優點:(1)上述碳化硅陶瓷的制備方法采用高溫壓力浸滲二次補充碳源的方式,提高了預制坯密度,降低孔隙率,也降低了游離硅的尺寸和數量,從而提高了反應燒結碳化硅材料的力學性能。(2)上述碳化硅陶瓷的制備方法通過預處理碳化硅微粉,讓金屬元素均勻沉降在碳化硅顆粒表面,**終會存在于晶界處,具有促進燒結,降低氣孔率,提高抗彎強度和高溫性能的作用。為您的 CNC 銑削部件提供可制造性設計反饋。山東HIPS半導體與電子工程塑料零件定制加工保冷
所述分散劑和所述第二分散劑相互獨立地選自四甲基氫氧化銨、聚乙烯吡咯烷酮、丙烯酸銨、丙烯酸鈉、聚乙烯醇及聚乙烯醇縮丁醛中的至少一種;及/或,所述粘結劑包括酚醛樹脂、環氧樹脂、聚乙烯醇、羧甲基纖維素鈉、丙烯酸及聚乙烯醇縮丁醛中的至少一種;及/或,所述碳化硅微粉的粒徑為μm~μm;及/或,所述稀土元素包括釔、釹、鈰、鑭及釤中的至少一種。一種碳化硅陶瓷,由上述碳化硅陶瓷的制備方法制備得到。一種半導體零件,由上述碳化硅陶瓷加工處理得到。上述碳化硅陶瓷的制備方法先采用金屬的氯化物、環氧丙烷、分散劑和溶劑與碳化硅微粉混合,金屬元素的氯化物在環氧丙烷的作用下沉淀,然后在真空條件、700℃~900℃下進行加熱處理,使金屬元素的氯化物轉化為氧化物,并均勻沉降在碳化硅微粉表面,具有促進燒結、降低氣孔率的作用,從而提高碳化硅陶瓷的力學性能,相較于傳統的制備方法中將金屬元素的氧化物直接與碳化硅微粉及分散劑、粘結劑等混合,能夠使稀土元素的分布更均勻。另外,將預制坯與第二碳源混合加熱,液態的第二碳源在3mpa~7mpa的壓力條件下浸滲入預制坯的孔隙中,降低了孔隙率,從而提高了碳化硅陶瓷的力學性能。因此。湖北PF 半導體與電子工程塑料零件定制加工管殼工程塑料,絕緣材料板機加工零件。
冷卻后,得到碳化硅陶瓷。實施例2本實施例的碳化硅陶瓷的制備過程具體如下:(1)以氧化釔與碳化硅微粉的質量比為3∶100,得到氯化釔與碳化硅微粉的質量比為∶100,然后將氯化釔溶解在水和酒精的混合溶液中,溶解完全后加入分散劑聚乙烯醇縮丁醛,然后加入粒徑為5μm碳化硅微粉,攪拌均勻,得到漿料。在冰浴條件下加入與漿料的質量比為∶1的環氧丙烷,攪拌均勻得第二漿料。將第二漿料在閉式噴霧塔中噴霧,得到表面覆蓋有氧化釔的碳化硅顆粒。然后將碳化硅顆粒在真空條件、800℃下進行熱處理,得到預處理顆粒。(2)將第二分散劑聚乙烯吡咯烷酮溶解在水中形成溶液,將碳源炭黑和預處理顆粒在該溶液中均勻分散,再將粘接劑羧甲基纖維素鈉加入其中,進行球磨,球磨過程中的轉速為200轉/分,球磨時間為3h,得到第三漿料,將第三漿料在噴霧造粒塔中噴霧,得到平均尺寸為120微米的造粒粉。(3)將造粒粉均勻填滿模具,進行模壓成型,成型壓強為120mpa,保壓時間為50s,脫模,然后置入真空包裝袋中,抽真空,再置于等靜壓機中等靜壓成型,成型壓力為300mpa,保壓時間為120s,得到預制坯。(4)將預制坯放置于真空排膠爐中,以每分鐘℃的速度升溫至900℃,保溫3h。
為實現傳動筒4的平穩傳動,可選地,如圖1至圖3所示,工藝盤組件還包括傳動架9,傳動架9的一端與傳動筒4背離波浪管6的一端固定連接,傳動架9的另一端用于與電機12的輸出軸連接,傳動架9用于帶動傳動筒4轉動。本實用新型對傳動架9的結構不做具體限定,例如,如圖3所示,傳動架9包括一對傳動法蘭91和用于連接兩傳動法蘭91的法蘭連接件92。推薦地,下方的傳動法蘭91通過聯軸器與電機12的輸出軸連接。為保證所述工藝盤組件運動的流暢性,推薦地,驅動軸3、傳動筒4和工藝盤轉軸1中至少一者的材料為奧氏體不銹鋼。本實用新型的發明人在研究中發現,現有的半導體設備出現旋轉卡頓的問題是因為運動件之間的潤滑油脂液化泄露,導致潤滑效果變差。進過進一步研究后,發明人發現是運動件中的部分鋼鐵材料結構在高速旋轉的過程中因電磁感應效應產生發熱現象,其發熱量過大引起潤滑油脂液化。因此,本實用新型中推薦地選擇驅動軸3、傳動筒4和工藝盤轉軸1的材料為奧氏體不銹鋼。奧氏體不銹鋼的材料與現有技術中運動件常采用的304不銹鋼相比,電阻率更低,在相同轉速下電磁感應發熱量更小,從而避免了潤滑油脂泄露,保證了所述工藝盤組件運動的流暢性。作為一種推薦的實施方式。由于該材料的線性熱膨脹系數(CLTE)較低、公差配置可更緊。
上述碳化硅陶瓷的制備方法能夠獲得具有較好的力學性能的碳化硅陶瓷。附圖說明圖1為一實施方式的碳化硅陶瓷的制備方法的工藝流程圖。具體實施方式為了便于理解本發明,下面將結合具體實施方式對本發明進行更的描述。具體實施方式中給出了本發明的較佳的實施例。但是,本發明可以以許多不同的形式來實現,并不限于本文所描述的實施例。相反地,提供這些實施例的目的是使對本發明的公開內容的理解更加透徹。除非另有定義,本文所使用的所有的技術和科學術語與屬于本發明的技術領域的技術人員通常理解的含義相同。本文中在本發明的說明書中所使用的術語只是為了描述具體地實施例的目的,不是旨在于限制本發明。請參閱圖1,一實施方式的碳化硅陶瓷的制備方法,包括如下步驟:步驟s110:將碳化硅微粉、金屬元素的氯化物、環氧丙烷、分散劑及溶劑混合,并在真空條件、700℃~900℃下進行加熱處理,得到預處理顆粒,其中,金屬元素為稀土元素或鍶元素。具體地,碳化硅微粉的粒徑為μm~μm。選擇上述粒徑的碳化硅微粉有利于控制得到的碳化硅陶瓷的晶粒尺寸,從而提高碳化硅陶瓷的力學性能。稀土元素包括釔(y)、釹(nd)、鈰(ce)、鑭(la)及釤(sm)中的至少一種。我們的零件被設計用于整個晶圓加工制程。安徽CPVC半導體與電子工程塑料零件定制加工要求
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3)為:將造粒粉均勻填滿模具,進行模壓成型,成型壓強為120mpa,保壓時間為50s,脫模得到預制坯。對比例8對比例8的碳化硅陶瓷的制備過程與實施例2的碳化硅陶瓷的制備過程相似,區別在于:步驟(3)為:將造粒粉置入真空包裝袋中,抽真空,然后置于等靜壓機中等靜壓成型,成型壓力為300mpa,保壓時間為120s,得到預制坯。對比例9對比例9的碳化硅陶瓷的制備過程與實施例2的碳化硅陶瓷的制備過程相似,區別在于:步驟(7)中,燒結溫度為1300℃。對比例10對比例10的碳化硅陶瓷的制備過程與實施例2的碳化硅陶瓷的制備過程相似,區別在于:步驟(7)中,燒結溫度為1900℃。對比例11對比例11的碳化硅陶瓷的制備過程與實施例2的碳化硅陶瓷的制備過程相似,區別在于:步驟(7)中,第二預制坯與硅粉的質量比為1∶。對上述實施例1~實施例3和對比例1~對比例11得到的碳化硅陶瓷的力學性能進行測試。采用gbt6065-2006三點彎曲強度法測試碳化硅陶瓷的抗彎強度。采用astme384-17納米壓痕方法測試碳化硅陶瓷的維氏硬度。采用gb-t25995-2010阿基米德排水法方法測試碳化硅陶瓷的致密度。采用精細陶瓷斷裂韌性試驗方法單邊預裂紋梁(sepb)法測試碳化硅陶瓷的斷裂韌性。山東HIPS半導體與電子工程塑料零件定制加工保冷
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